傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩模板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。激光直寫光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩模板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩模板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦軟件控制，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案，無需掩膜工序。絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時(shí)間都浪費(fèi)在了如電極連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。我們產(chǎn)品可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費(fèi)用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工細(xì)小的結(jié)構(gòu)，且可加工大面積部分。先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)機(jī)制可以使兩部工序完美結(jié)合。因此LW405D也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。